ASML新一代EUV光刻机 一台价格近27亿元

  据路透社报导，半导体设备巨子ASML正在着手研制价值4亿美元（约合人民币26.75亿元）的新旗舰光刻机，有望2023年上半年完结原型机，最早2025年投入到正常的运用中，2026年到2030年主力出货。

  音讯显现，新一代High-NA EUV光刻机机型约双层巴士巨细，分量超越200吨。该设备精密度更高、所运用的零部件更多，可用来出产下一代芯片，芯片终端范畴可掩盖手机、笔电、轿车、AI等。

  据了解，ASML下一代EUV 0.55NA渠道有望使芯片尺寸减小1.7倍，进一步进步分辨率，并将微芯片密度进步近3倍。

  据悉，0.55NA光刻机比现售的0.33NA EUV光刻机大出30%，价格约是0.33NA EUV的2倍。现在，为战胜技能应战，ASML正与全球最大的微电子研制组织IMEC一起树立测验实验室。

  现在，英特尔、三星、台积电等代工厂正大幅扩产，其间台积电、三星两家在先进工艺制程比赛一直在晋级，据悉，本年他们先后宣告了将在本年量产3nm，业界估测他们所运用的设备应该便是ASML最新一代的0.33NA EUV。光刻机设备与芯片制程工艺相匹配，现在EUV光刻机暂时能满意量产3nm的需求，可是3nm以下工艺却难以担任。这也是ASML加快研制新的光刻机的原因之一。

  据近期外媒音讯，台积电等公司计划在2023年开端出产2nm代。假如音讯事实，ASML高端光刻机将愈加炽热。

  接下来的几年，ASML将会很忙。Q1财报会议上，ASML表明，跟着第二季度芯片制作设备的市场需求超越供应量，将上调长时间营收预期，保持本年20%的营收增幅和55台极紫外光科技的产能预期不变，并表明，2025年将能出产70多部极紫外光刻机。